青島賽瑞得偉創(chuàng)電子科技有限公司供應(yīng)的石墨烯CVD二維材料設(shè)備，面向石墨烯薄膜制備與二維材料研發(fā)場(chǎng)景。設(shè)備規(guī)格可按實(shí)驗(yàn)樣機(jī)或中試產(chǎn)線定制，爐體尺寸與裝片方式依據(jù)客戶工藝需求確定；腔體及氣路采用耐高溫、抗腐蝕材質(zhì)，配合潔凈裝配工藝，減少污染風(fēng)險(xiǎn)。

主要參數(shù)方面，工作溫度、升溫速率、真空度及氣氛控制范圍可按工藝配置，支持多路氣體精準(zhǔn)配比，溫控系統(tǒng)穩(wěn)定性良好，適配薄膜沉積與退火等工序。設(shè)備兼顧實(shí)驗(yàn)室小批量試制與工業(yè)化連續(xù)生產(chǎn)，換片與清洗流程便捷。

該石墨烯CVD二維材料設(shè)備可用于石墨烯卷對(duì)卷生長(zhǎng)、二維材料薄膜沉積及材料改性研究，具備氣氛均勻、控溫穩(wěn)定、運(yùn)行可靠等特點(diǎn)，并支持非標(biāo)定制與工藝適配服務(wù)。廠家依托自有潔凈廠房與研發(fā)團(tuán)隊(duì)，提供從樣機(jī)到量產(chǎn)的裝備支持，價(jià)格面議，歡迎來(lái)電詢價(jià)。

青島賽瑞得偉創(chuàng)電子科技有限公司經(jīng)營(yíng)范圍包括：LPCVD低壓氣相沉積、LPCVD低壓氣相沉積設(shè)備、LPCVD低壓氣相沉積系統(tǒng)、LPCVD低壓氣相沉積爐管、LPCVD低壓氣相沉積裝置、LPCVD低壓氣相沉積工藝設(shè)備、LPCVD低壓氣相沉積鍍膜設(shè)備、LPCVD低壓氣相沉積半導(dǎo)體設(shè)備、LPCVD低壓氣相沉積真空設(shè)備、LPCVD低壓氣相沉積薄膜設(shè)備、LPCVD低壓氣相沉積量產(chǎn)設(shè)備、法拉*旋光片液相外延爐、法拉*旋光片液相外延爐設(shè)備、法拉*旋光片液相外延爐系統(tǒng)、法拉*旋光片LPE液相外延爐、法拉*旋光片液相外延爐生長(zhǎng)設(shè)備、法拉*旋光片液相外延爐磁光晶體設(shè)備、